洗一般定义为在真空工艺进行前，先从工件或系统材料表面清除所不期望的物质的过程。真空零部件的表面清洗处理是很必要的，因为由污染物所造成的气体、蒸气源会使真空系统不能获得所要求的真空度。此外，由于污染物的存在，还会影响真空部件连接处的强度和密封性能。
暴露于大气中的表面普遍受到污染，表面上任何一种无用的物质或能量都是污染物。表面污染就其物理状态来看可以是气体，也可以是液体或固体，它们以膜或散粒形式存在。就其化学特征来看，它可以处于离子态或共价态，可以是无机物或有机物。污染的来源有多种，最初的污染常常是表面本身形成过程中的一部分。吸附现象、化学反应、浸析和干燥过程、机械处理以及扩散和离析过程都使各种成分的表面污染物增加。比较常见的真空材料表面上的污染物具体有以下几种类型。
①油脂：加工、装配、操作时沾染上的润滑剂、切削液、真空油脂等;
②水基类：操作时的手汗、吹气时的水汽、唾液等;
③表面氧化物：材料长期放置在空气中或放置在潮湿空气中所形成的表面氧化物;
④酸、碱、盐类物质：清洗时的残余物质、手汗、水中的矿物质等;
⑤抛光残渣及环境空气中的尘埃和其它有机物等。
清洗的目的是为了改进真空系统中所有器壁和其它组件表面在各工作条件下的工作稳定性。这些工作条件包括：高温、低温、以及电子、离子、光子或重粒子的发射和轰击。
清洗后要求得到的表面可分为两类：原子级清洁表面和工艺技术上的清洁表面。
原子级清洁表面仅能在超高真空下实现。它需要在严格控制的环境条件下进行，一般通过较长的时间过程，采用如加热、粒子轰击、溅射、气体反应等技术手段在特定的表面区域获得原子级清洁表面。通常的实际应用一般并不要求获得原子级清洁表面，仅要求工艺技术上的清洁或较好的表面质量，即保证所有的表面尽可能没有微观结构物质，并且使清洗后表面的各种分子约束得更紧密，在基体相上没有明显的化学物质。
一般情况下，在一切需要使用溶剂的清洗工作都不能在真空中进行。如果在真空中进行清洗(通常采用加热、轰击等手段)，那么清洗通常是在真空工艺系统内部进行的。